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【 名 稱 】: 《濺鍍方法、濺鍍設備裝置、真空濺鍍技術(shù)》
【 日 期 】: 2011
【 冊 數(shù) 】: 全套
【 原 價 】:  300  
【 現(xiàn) 價 】: 260  
【上傳日期】: 2011年8月11日18點19分5秒  

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濺鍍
01、一種濺鍍方法及濺鍍設備
02、含貴金屬濺鍍靶材的制作方法
03、高真空離子束濺鍍靶材利用率增強裝置
04、濺鍍承載裝置
05、一種用于濺鍍式鍍膜機臺的承載臺
06、應用濺鍍工藝在太陽能電池基板上制作薄膜的方法
07、濺鍍用承載裝置
08、濺鍍靶材
09、濺鍍裝置、透明導電膜的制造方法
10、濺鍍裝置及濺鍍方法
11、一種真空濺鍍防電磁波干擾膜之不良膜面的處理方法
12、鉭基化合物的陶瓷濺鍍靶材及其應用方法和制備方法
13、清潔濺鍍機的方法
14、濺鍍裝置
15、濺鍍靶材
16、濺鍍靶材牌的電子束焊接
17、磁電管及濺鍍靶間的間距補償
18、LCP基材防EMI鍍膜的濺鍍前處理方法
19、LCP基材濺鍍防EMI鍍膜的前處理方法
20、塑料基材上鍍覆高遮蔽防電磁干擾薄膜的濺鍍方法
21、防止被濺鍍物品變形的方法
22、對向靶材式濺鍍裝置
23、以真空濺鍍在塑膠基材上被覆抗EMI薄膜的方法
24、塑膠件真空濺鍍中提高鍍層附著性的方法
25、陽極板及包括所述陽極板的濺鍍裝置
26、濺射源、濺鍍裝置、薄膜的制造方法
27、一種多功能濺鍍系統(tǒng)及濺鍍方法
28、抗菌紡織材料的負壓濺鍍制造方法及其產(chǎn)品
29、濺鍍設備供電系統(tǒng)、電壓控制信號形成系統(tǒng)及方法
30、濺鍍靶材的制造方法
31、輪圈混色濺鍍制程
32、濺鍍機臺及其濺鍍載臺
33、高PTF濺鍍靶和制造方法
34、用于平面濺鍍的二維磁電管掃描
35、用于高功率濺鍍的電源聯(lián)接器
36、用于反射型平面顯示器的反射膜及濺鍍靶材的合金材料
37、提高濺鍍靶使用率的預濺鍍方法
38、磁控式搖擺掃瞄型濺鍍機
39、自動檢測半導體芯片位置的濺鍍系統(tǒng)
40、磁控管濺鍍裝置和方法
41、濺鍍裝置及其使用此裝置的金屬層/金屬化合物層的制造方法
42、銦錫氧化物的濺鍍工藝與形成銦錫氧化物層的方法
43、一種以真空濺鍍法制作多層陶瓷電容器的方法
44、磁控及非平衡式磁控物理濺鍍多層覆合超硬薄膜之方法
45、盤片濺鍍遮罩
46、用于濺鍍鍍膜的陽極
47、一種磁控及非平衡式磁控物理濺鍍ZrCN于微型鉆頭的方法
48、磁控濺鍍裝置
49、濺鍍清洗室的晶座設計及應用該設計的金屬化制造過程
50、濺鍍靶及其制造方法
51、濺鍍靶安裝到墊板上的方法和設計
52、濺鍍靶及其制造方法
53、陰極濺鍍裝置
54、在濺鍍蝕刻工藝中監(jiān)控蝕刻腔體內(nèi)離子濃度的方法及裝置
55、濺鍍—薄膜于—塑料制品上的方法及其塑料制品
56、具有兩個濺鍍用陰極的、用于對平的基片進行鍍膜的設備
57、清潔短路后的濺鍍室高壓陰極的方法和裝置
58、真空濺鍍裝置
59、平面磁控濺鍍的方法和設備
60、低壓濺鍍的方法與裝置
61、濺鍍清洗室的晶座設計及應用該設計的金屬化制造過程
62、以氣噴粉末制作鋁合金濺鍍靶材的方法
63、金屬濺鍍靶材的制造方法
64、金屬硅化物濺鍍靶
65、用于平面濺鍍的二維磁電管掃描
66、導電性阻障層、尤其是釕鉭合金及其濺鍍沉積方法
67、濺鍍靶材的制造方法
68、濺鍍式鍍膜裝置
69、濺鍍裝置
70、濺鍍式鍍膜裝置及方法
71、偏壓晶片時的鋁濺鍍

濺射鍍
72、一種濺射鍍膜裝置和方法
73、多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置
74、應用于磁控濺射鍍膜中的膜厚修正工藝及系統(tǒng)
75、能量過濾磁控濺射鍍膜方法及實施該方法的裝置
76、磁控濺射鍍膜機的永磁靶裝置
77、一種磁控濺射鍍膜用低熔點金屬與背板加工工藝
78、防污染超高真空磁控濺射鍍膜裝置
79、電磁波屏蔽織物的真空濺射鍍膜和化學鍍膜復合制造方法及其產(chǎn)品
80、多級加速模式下磁控濺射鍍膜方法
81、磁控濺射鍍膜夾具及其使用方法
82、能熱處理的、耐久的、紅外反射的濺射鍍膜玻璃及其制造方法
83、匹配的、可熱處理的、耐久的、不反射的濺射鍍膜玻璃及其制造方法
84、濺射鍍膜設備的靶中陰極和接地屏蔽極的配置
85、改進了的可熱處理濺射鍍膜玻璃層系
86、一種磁控濺射鍍吸收膜工藝
87、濺射鍍膜裝置
88、真空多元濺射鍍膜方法
89、一種在SiC微顆粒表面磁控濺射鍍銅膜的方法
90、濺射鍍膜離子束輻照增強方法
91、電子陶瓷連續(xù)式濺射鍍膜設備


濺鍍方法、濺鍍設備裝置、真空濺鍍技術(shù)
濺鍍方法、濺鍍設備裝置、真空濺鍍技術(shù)
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